De belangrijkste verschillen tussen GaN (galliumnitride) en LDMOS (lateraal diffuus metaal-Oxide Semiconductor)Het blokkeren van drones
GaN (Gallium Nitride) en LDMOS (Laterally Diffused Metal-Oxide Semiconductor) zijn twee gangbare technologieën op het gebied van RF-vermogensapparaten, die veel worden gebruikt in eindversterkers, interferentiemodules en andere apparatuur. Ze verschillen aanzienlijk wat betreft materiaaleigenschappen, kernprestaties, werkingsprincipes en toepassingsscenario's. Het volgende is een gedetailleerd overzicht vanuit een professioneel perspectief, waarbij het gemak van begrip en de technische nauwkeurigheid in evenwicht zijn:
I. Verschillen in kernmaterialen en apparaatstructuur (essentiële verschillen)
GaN behoort tot de derde generatie halfgeleidermaterialen met een brede bandafstand. De kern ervan maakt gebruik van GaN-op-SiC (galliumnitride op siliciumcarbidesubstraat) of GaN-op-Si (galliumnitride op siliciumsubstraat)-processen. Het vormt een twee- elektronengaskanaal (2DEG) met hoge-elektronen-mobiliteit via een AlGaN/GaN-heterojunctie. Apparaten werken meestal in depletie-modus (D-MOSFET), zijn standaard geleidend en hebben een negatieve poortspanning nodig om uit te schakelen.
Structureel vereist het geen complex diffusieproces, heeft het een extreem kleine parasitaire capaciteit (Cgs/Cds) en een meer uniforme elektrische veldverdeling. Voor hetzelfde vermogen is de chipgrootte veel kleiner dan die van LDMOS, wat resulteert in een aanzienlijk voordeel in de vermogensdichtheid.
LDMOS is een traditioneel halfgeleidermateriaal op basis van silicium-, gebaseerd op een P-N-overgang die wordt gevormd door het doteren van een epitaxiale laag silicium. Het is een apparaat in de verbeterings-modus (E-MOSFET), dat standaard niet geleidt en een positieve poortspanning vereist om in te schakelen. Het blijft veilig, zelfs als de afvoer eerst van stroom wordt voorzien.
Structureel heeft het een groter perifeer ontwerp, wat leidt tot een grotere parasitaire capaciteit, beperkte bandbreedte-uitbreiding, een grotere chipgrootte en een lagere vermogensdichtheid voor hetzelfde vermogen.Het blokkeren van drones
III. Verschillen in werkingsprincipe en operationele vereisten
GaN-uitputting-Type apparaatkenmerken: wordt standaard ingeschakeld wanneer V_G=0V en vereist een negatieve poortspanning (V_G<0V) to turn off. Therefore, the power-on sequence must strictly follow "apply gate negative voltage (V_GG) first, then drain voltage (V_DD)". When powering off, "turn off drain voltage first, then gate negative voltage", otherwise a large current surge will occur, burning out the device.
Zonder GaN-transistoren van het P-type verschilt het analoge/digitale IC-ontwerp van op silicium- gebaseerde apparaten. Gate-drive vereist speciale circuits en is incompatibel met traditionele silicium driver-IC's.
LDMOS Enhancement-Type Device Characteristics: It is turned off by default when V_G=0V and turns on after applying a positive gate voltage (V_G>0 V). De stroom-aan-sequentie kan flexibel worden geselecteerd als "eerst drainspanning (V_DD) toepassen, daarna positieve poortspanning (V_GG)". Bij het uitschakelen "schakelt u eerst de poortspanning uit en laat u vervolgens de spanning leeglopen", waardoor de bediening eenvoudiger en fouttoleranter wordt.
Het ontwerp van het drivercircuit is gebaseerd op volwassen siliciumtechnologie en is eenvoudig, zeer compatibel, vereist geen speciale driverchip en is gemakkelijk te onderhouden.
IV. Verschillen in toepassingsscenario's (precies passend bij verschillende behoeften)
De GaN-kern (galliumnitride) is aangepast aan scenario's met hoge- frequentie, hoog- vermogen, geminiaturiseerde en brede- bandbreedte, vooral geschikt voor high- toepassingen met strenge eisen op het gebied van grootte, energieverbruik en efficiëntie:
RF-jammingmodules: zoals 50W-FPV-anti-drone-jammingmodules (500-650MHz), systemen voor elektronische oorlogsvoering, die vertrouwen op hoge vermogensdichtheid en brede bandbreedte-eigenschappen om geminiaturiseerde integratie en efficiënte jamming te bereiken;
5G-communicatie en satellietcommunicatie: 5G-macrobasisstations (vooral millimetergolf, Sub-6GHz-band), lage- satellietgrond-naar-luchtverbindingen in een lage-baan, die parallelle versterking via meerdere kanalen en beamforming ondersteunen om de signaaldekking en transmissiesnelheid te verbeteren;
Radar- en defensieapparatuur: actieve phased array-radar, voertuig-gemonteerde apparatuur voor elektronische oorlogsvoering, hoge temperatuurbestendigheid en stralingsweerstandseigenschappen die zich aanpassen aan complexe slagveldomgevingen;
Geavanceerde testapparatuur-: testen van RF-componenten, verificatie van antenneprestaties, brede- bandbreedte en nauwkeurige versterkingskenmerken verbeteren de testnauwkeurigheid.
LDMOS (Laterally Diffused Metal-Oxide Semiconductor) is bij uitstek geschikt voor toepassingen met lage- frequentie, gemiddeld-tot-hoog vermogen, smalband, hoge-stabiliteit en lage-kosten, waardoor het geschikt is voor volwassen toepassingen met hoge eisen aan lineariteit en onderhoudsgemak:
Traditionele communicatie: 4G-basisstations, uitzending van televisie-uitzendingen, particuliere netwerkcommunicatie (PMR), die lineaire stabiliteit en uitstekende kosteneffectiviteit- biedt in smalbandscenario's;
Midden-tot-versterkers/interferentiemodules met laag vermogen: geschikt voor vaste toepassingen zonder vereisten voor hoge frequenties, zoals laag-uitzendingsinterferentie en civiele beveiligingsapparatuur;
Industriële en civiele apparatuur: industriële IoT-netwerken met een laag-wide-gebied, traditionele RF-bewakingsapparatuur, met volwassen technologie, een laag uitvalpercentage en geschiktheid voor continu gebruik op de lange- termijn;
Testapparatuur op instapniveau-: geschikt voor RF-testscenario's met lagere vereisten voor nauwkeurigheid en bandbreedte, wat aanzienlijke kostenvoordelen biedt.
V. Samenvatting (Kernselectiereferentie)Het blokkeren van drones
De belangrijkste voordelen van GaN zijn hoge frequentie, hoge vermogensdichtheid, hoge efficiëntie en miniaturisatie. De nadelen zijn de hoge kosten en strenge eisen voor de timing van de stroomvoorziening en DPD-algoritmen, waardoor het geschikt is voor hoogwaardige, complexe technologie-upgrades. De belangrijkste voordelen van LDMOS zijn lage kosten, hoge lineariteit, hoge stabiliteit en bedieningsgemak. De nadelen zijn de slechte prestaties bij hoge-frequenties en de lage vermogensdichtheid, waardoor het geschikt is voor-laagfrequente, volwassen en kosten-effectieve toepassingen.
Bij de daadwerkelijke selectie van RF-modules (zoals eindversterkers en interferentiemodules) heeft GaN de voorkeur voor hoge- vereisten voor hoge frequentie, geminiaturiseerde en brede- bandbreedte; LDMOS heeft de voorkeur voor lage- frequentie, smalle-band, lage- kosten en hoge- stabiliteitsvereisten. De twee zijn niet volledig uitwisselbaar, maar complementair en bestaan naast elkaar op basis van toepassingsvereisten.

